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 愛發(fā)科開發(fā)出用于大尺寸液晶面板TFT的銅濺射技術(shù)

 

   

 
   [投影之窗消息]  日前,愛發(fā)科開發(fā)出了在大尺寸液晶面板TFT布線時(shí)可用銅替代鋁的濺射技術(shù)。提高了布線與玻璃基板及非晶硅層的密著性,同時(shí)防止了原子擴(kuò)散。該技術(shù)已經(jīng)開始向液晶面板廠商推薦,希望能夠?qū)⑵鋺?yīng)用在50英寸級和60英寸級以上的液晶電視以及高精細(xì)數(shù)字廣告牌上。

    隨著液晶面板向大型化發(fā)展,業(yè)界希望開發(fā)出布線電阻小的材料。目前的主流材料為鋁合金,但是在50英寸以上的面板中,存在由于布線較長,導(dǎo)致信號劣化的問題。為避免這種情況,大多是在面板兩側(cè)安裝驅(qū)動(dòng)IC來分擔(dān)驅(qū)動(dòng),不過這樣又會(huì)使成本增加。而布線使用銅的話,能夠只由面板一側(cè)來驅(qū)動(dòng),從而使驅(qū)動(dòng)IC的成本減半。此前也有布線時(shí)使用銅的工藝,但問題是銅與玻璃基板及硅層等的密著性較差,并且銅原子容易向硅層擴(kuò)散。
  
    愛發(fā)科千葉超材料研究所此次開發(fā)的工藝的特點(diǎn)是:提高了銅布線與玻璃基板的密著性,同時(shí)防止了原子擴(kuò)散。首先,在玻璃基板上形成銅氧化層。在氬氣中混有氧氣的混合氣體條件下進(jìn)行濺射,形成與玻璃基板及底層膜連接的界面銅氧化層。然后,停止供氧,在氬氣條件下層疊銅布線層。 銅氧化層的作用是提高與底板的密著性并充當(dāng)勢壘層。因此,不再需要Mo及Ti等勢壘金屬。另外蝕刻特性與銅布線層相同,因此不需要多余的刻蝕工藝。 為進(jìn)一步提高銅氧化層與底板的密著性,此次將添加了比銅更易于氧化的Mg、Mn、Ni、Zr等金屬的銅合金作為濺射靶材。愛發(fā)科公司預(yù)計(jì)液晶面板布線的30%可以使用該技術(shù),這將有希望成為一個(gè)非常大的市場。
              

 

愛發(fā)科開發(fā)出用于大尺寸液晶面板TFT的銅濺射技術(shù) 

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